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在真空的世界里，也有一对不离不弃的“超级情侣”。我们习惯称这对超级伴侣为前级真空泵和高真空泵。前级泵必须满足特定的抽气速度和极限真空，并且可以持续的无故障长时间运行，高真空泵极限真空极高，只有分子泵才能有此能力。前级泵和分子泵相生相伴，在电子显微镜、质谱以及领域做出了的贡献，推动了科学仪器行业的飞速发展。
为什么分子泵和前级泵是天作之合？分子泵需要配置前级泵, 而不是直接在大气压下工作. 我们都知道涡轮分子泵必须在分子流状态下工作才能显示出它的优越性。分子泵输送气体应满足两个必要条件：1涡轮分子泵必须在分子流状态下工作；2分子泵的转子叶片必须具有与气体分子速度相近的线速度。具有这样的高速度才能使气体分子与动叶片相碰撞后改变随机散射的特性而作定向运动。分子泵的转速越高，对提高分子泵的抽速越有利；
在纯粹涡轮分子泵的情况下, 由于其分子流,需要的前级真空大约为为 5～10^-2mbar。所以需要前级泵来预抽，如果不预抽的话,直接启动分子泵, 由于形成的压缩比太大容易把分子泵叶片损坏，这就是为什么分子泵需要前级泵的主要原因。
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典型涡轮分子泵抽气系统涡轮分子泵抽气系统一般不需要用常见的液氮冷阱来阻止轴承润滑油或机械泵泵液的返流只要泵是以额定角速度旋转，那么泵对除很轻的气体氢以外的所有气体都具有比较高的压缩比，足以阻止这些气体从前级管道端返流到高真空端液氮冷却的表面不能捕集因压缩比低而返流到真空室的少量的氢液氮冷阱可用来提高系统对水蒸气的抽速，
其很好的安装位置是在高真空阀的后面，也就是直接设置在涡轮分子泵的喉部上方还可以考虑在高真空阀后面装一个三通管，把涡轮分子泵接在它的一个接口上，而把液氮冷却的表面接在另一个接口上而三通的任何两个接口之间的流导都要小于液氮冷阱的通导然而要使分子泵对水蒸气和空气都具有很大抽速，很佳的安排还是将液氮冷阱安装在涡轮分子泵和高真空阀门之间。
涡轮分子泵抽气系统既不需要用粗抽阱也不需要用前级管道冷阱粗抽与主抽系统之间较高的切换压力能防止机械泵油通过粗抽管道迁移到真空室中去，而泵对碳氢化物馏分的高压缩比也阻止它们从前级管道通过泵反扩散到真空室中去。
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在高真空抽气过程的起始阶段，泵的很大的未经烘烤的内表面会吸附水，然后再在较低的压力下重新释放出来。这种效应在无阀门的系统中更为明显，因为它可能比未暴露在压力高于150Pa的空气环境的有阀门的系统吸附更多的水蒸气。系统停机时，先关闭高真空阀，如果有液氮冷阱的话，还要将冷阱加热。在冷阱达到平衡温度后，关掉前级管道阀，再切断涡轮分子泵电动机的电源，使分子泵的转子减速。
一般来说，泵转子完全停止需要十分钟或更长的时间。在分子泵转子减速期间，来自前级管道的碳氢化合物和涡轮分子泵的润滑油蒸气会迅速地向泵的进气口上方区域扩散。为了防止机械泵油蒸气和涡轮分子泵润滑油蒸气的返流，在切断涡轮分子泵电动机的电源后，要用一股干燥的反向气流对分子泵进行放气。
例如，应该在泵转子速度下降到很大转速的50%左右时，在泵进气口上方的某处或在转子组件上部连续充入气或氮气，直到泵内压力达到大气压。通过从阀门3（见图1）充入气体就可适当地完成这一操作。当涡轮分子泵以额定速度运转时，不应经常充入压力为大气压的气流。这样做对轴的寿命是不利的。当前级管道阀关闭后，即可关掉机械泵系统，并用放气阀对机械泵内进行放气。停机后应立即关掉冷却水以防止内部冷凝。在正常工作时，可把水温调节到略高于来消除泵体外部可能形成的冷凝物。
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通用的沉积技术有化学气相淀积（CVD）、蒸发和溅射PVD。一般来说，其中还要夹杂低温（≤500℃）退火工艺等热处理工艺，用以增进金属层和半导体之间的低电阻接触、消除内应力等。设备运行过程中需要高洁净的真空环境，一般采用以磁悬浮分子泵为主的无油真空系统。
刻蚀是用化学或物理方法有选择地从硅片表面去除不需要材料的过程。刻蚀的基本目标是在涂胶的硅片上正确地掩膜图形。现代化的干法刻蚀设备包括复杂的机械、电气和真空系统，同时配有自动化的刻蚀终点检测和控制装置。刻蚀应用工况复杂，清洁性差，充入特种气体种类繁多，因此需要特殊处理的干泵和磁悬浮分子泵。
离子注入设备：离子注入是指在真空环境下，当离子束射向固体材料时，受到固体材料的抵抗而速度慢慢减低下来，并很终停留在固体材料中的现象。离子注入是半导体表面附近区域进行掺杂的主要技术，其目的是改变半导体的载流子浓度和导电类型。离子注入机是集成电路制造工序中的关键设备，需要高清洁的真空环境，以保证离子掺杂浓度和剂量的准确性。
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