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8分钟前 佛山录像机壳曝光显影加工定做服务为先「利成感光」[利成感光38dbdb8]内容：总的来说，曝光显影是一种将光线记录或转移到表面的技术，其应用非常广泛，在科研、工业生产、艺术创作和日常生活中都有重要的作用。曝光显影是一种工程加工技术，用于制造半导体芯片、液晶显示器等微电子器件，以及印刷和摄影等领域。曝光显影使用特定的光刻胶和掩膜，在曝光和显影两个步骤中将所需的图案或形状转移到底材表面。

显影工艺是指用显影液去除晶圆上部分光刻胶，形成三维的物理图形将显影液涂覆在曝光后的晶圆表面上，正胶的曝光区域和负胶的非曝光区域溶于显影液中，进一步将反应聚合物和显影液残留冲洗后，就可以显现出光刻胶中的图形，如图1所示。尽管对193i负胶的研发已经倾注了很大的努力，但是其性能仍然与正胶有比较大的差距，所以提出负显影（Negative Tone Develop，NTD）。

曝光一般在曝光机内进行，目前的曝光机依据光源冷却方式可分为风冷和水冷，曝光质量取决于除干膜致抗蚀剂、光源选择、曝光时间、同时曝光影响图案的线宽，过量曝光会使图形线条变细，蚀刻产品线条变粗。所以好的办法是依据显影的干膜光亮程度，图像清晰度，图案线条与底片相符，曝光设备参数和感光性能，确定适合的曝光时间。

3D曲面玻璃的曝光显影技术的优势在于：在玻璃表面有极高的解像力，利用曝光显影工艺正好可以解决遮蔽油墨不能通过传统印刷解决的问题，具有精度高，量产性好，良率高等特点，采用曝光显影技术，遮蔽油墨可控良率可达90%以上。

曝光显影工艺主要应用于微电子加工中，是一种将芯片图案传递到硅片上的技术。

曝光显影工艺可以分为以下步骤：准备硅片：在硅片上涂覆光刻胶，将硅片和光刻胶一起加热，使其在表面形成均匀的光刻胶层。照射：使用紫外线辐射光源将芯片图案(或感光掩膜中的图案）通过掩膜传递到光刻胶层上。

只有对公差配合完全掌握，才能简单可靠的做出合格品。目前加工行业在致力打造喷涂曝光显影一条龙服务，这种表面装饰工艺可以克服贴合的一些不足，具备一定的优势，目前蓝思、伯恩的曝光显影加工工艺相对比较成熟。